當(dāng)前位置:武漢鑫膜環(huán)??萍加邢薰?/a>>>超純水設(shè)備>> 武漢超純水設(shè)備
武漢超純水設(shè)備是將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。這種水中除了水分子(H20)外,幾乎沒有什么雜質(zhì),沒有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物,超純水是一般工藝很難達(dá)到的,電阻率一般為10~18.3MΩ·cm。
常用工藝:
1、RO+離子交換
特點(diǎn):適用于原水水質(zhì)較好的條件,投資較少,自動(dòng)化程度相對(duì)較低,適用于出水品質(zhì)在10—15兆歐/厘米。
2、RO+EDI
特點(diǎn):自動(dòng)化程度較高,出水品質(zhì)穩(wěn)定,適用于出水品質(zhì)在15—17兆歐/厘米
3、RO+EDI+拋光床。
特點(diǎn):自動(dòng)化程度較高,投資較大,出水品質(zhì)優(yōu)良,適用于出水品質(zhì)在17—18.3兆歐/厘米
武漢超純水設(shè)備性能特點(diǎn):
1、產(chǎn)品水品質(zhì)高,長(zhǎng)期運(yùn)行產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定。
2、自動(dòng)化程度高,操作管理簡(jiǎn)單,勞動(dòng)強(qiáng)度低
3、不會(huì)因再生而停機(jī),連續(xù)再生,無(wú)需停機(jī)。
4、不需化學(xué)再生,無(wú)污水排廢
5、運(yùn)行費(fèi)用低,能耗低
6、占地面積小,廠房投資少
應(yīng)用行業(yè):
1、太陽(yáng)能光伏行業(yè):?jiǎn)?多晶硅、硅片切割、太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體硅材料等工用純水和超純水。
2、電子工業(yè):半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝、引線框架、集成電路、印刷電路板、液晶顯示器、觸摸屏、眼鏡鏡片、數(shù)碼相機(jī)鏡片、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用超純水。
3、生物醫(yī)藥工業(yè):生物技術(shù)用水、醫(yī)藥生產(chǎn)用水、生化制品用水、針劑、粉針劑、藥劑、大輸液、科研無(wú)菌水、口服液等符合GMP標(biāo)準(zhǔn)。
4、化工工業(yè):化工工藝用水、化學(xué)試劑、化工生產(chǎn)用水、精細(xì)化工、化妝品、洗潔精、洗衣液、打印機(jī)墨水等生產(chǎn)工藝用純水。
基本參數(shù):
指標(biāo) | 參數(shù) |
EDI要求: | 反滲透RO產(chǎn)水,電導(dǎo)率1-50μs/cm,最大允許電導(dǎo)率≤50μs/cm |
pH值: | 7.5—9 |
溫度: | 15℃--35℃ |
進(jìn)水壓力: | 0.15—0.4MPa |
濃水進(jìn)水壓力: | 0.10—0.3MPa |
產(chǎn)水壓力: | 0.05—0.25MPa |
濃水出水壓力: | 0.02—0.2MPa |
進(jìn)水硬度: | 0.2—0.6MPA |
進(jìn)水有機(jī)物: | TOC<0.5ppm |
進(jìn)水氧化劑: | Cl2(活性)<0.03ppm |
進(jìn)水硅: | SiO2<0.5ppm |
進(jìn)水總CO2: | <3ppm |
進(jìn)水顆粒度: | <1μm |